消息称三星电子、SK海力士均将向 ASML EUV 光刻机投资超 10 万亿韩元
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韩媒称,三星电子和SK海力士正竞相采购ASML的EUV光刻机,相关投资额均在10万亿至20万亿韩元区间。SK海力士已确认2026至2027年向ASML采购11.95万亿韩元设备,三星电子则计划在2028年将High NA EUV用于DRAM量产。
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IT之家 11 月 10 日消息,韩媒《ChosunBiz》当地时间本月 8 日报道称,该国两大半导体企业三星电子、SK 海力士正竞相采购 ASML 的 EUV 光刻机,相关投资额均在 10 万亿至 20 万亿韩元区间(IT之家注:现汇率约合 491.3 万至 982.6 亿元人民币)。

作为这波 AI 半导体浪潮中受益最为明显的那批企业,三星电子、SK 海力士都在努力提升晶圆厂产能,而 EUV 机台是产能增长的关键要素。

SK 海力士今年 3 月确认,将于 2026 至 2027 两年向 ASML 采购 11.95 万亿韩元的 EUV 光刻机,其龙仁 Y1 晶圆厂预计 2027 年 2 月启用首个无尘室;另一方面,三星电子承诺 2028 年将 High NA EUV 用于 DRAM 量产,其平泽 P5 预计 2027 年中导入设备。

两家企业均拥有庞大的 EUV 设备需求,而半导体设备的交付周期正普遍延长,提前下单有助于确保产能按规划上线。

相关阅读:

  • 《光刻机巨头 ASML 阿斯麦需求排到 2030 年》
  • 《曝 ASML 光刻机配件韩国市场将统一涨价 10%,三星、SK 海力士已接受》
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